XEI Scientific Evactron E50 E-TC 去污器远程等离子源常用于 SEM、TEM、ALD 和 PVD 样品和基材制备。 XEI Scientific Evactron E50 E-TC 净化系统包括:Evactron E50 E-TC 远程等离子体自由基源,带气体净化选项,Evactron E50 E-TC 机架式控制器,Evactron E50 E-TC 触摸板界面,系统用户手册和 Evactron E50 电缆组。这些是我们理想真空
PlasmaVAC P50W等离子体清洁和净化系统的集成组件,是扫描 (SEM) 和透射 (TEM) 电子显微镜样品制备的理想产品。等离子清洁是一个至关重要的步骤,因为它可以去除样品表面的有机污染物,提高图像质量和分析准确性。
等离子清洗对于去除以下样品和基材中的碳氢化合物污染至关重要:
- 扫描电子显微镜(SEM)
- 透射电子显微镜 (TEM)
- X 射线光电子能谱 (XPS)
- X 射线光谱 (EDX)
- 低温等离子聚焦离子束 (Cryo-PFIB)
- 原子层沉积 (ALD)
- 物理气相沉积 (PVD)
- 极紫外光刻 (EUVL)
Evactron E50 E-TC表面处理规格:
- XEI Scientific 远程等离子体源
- 型号 Evactron E50 E-TC
- 功率可在 35 至 75 瓦之间调节
- 最大连续运行功率为 50 瓦
- 射频频率为 13.56 MHz
- 两种气体入口过滤器选项:3 nm 和 0.5 µm 孔径
- 3 纳米孔径符合半导体行业 SEMI F38-0699 指令
- 使用 O2、CDA、Ar/H2、Ar/O2、N2/H2 和 N2 气体进行测试。
- 专用 Evactron 用户界面控制器
- 用户设置存储
- 配方、功率、周期和清洁时长
等离子清洗是一种广泛应用于显微镜(包括扫描电子显微镜 (SEM) 和透射电子显微镜 (TEM))的技术,用于制备和净化样品。它可有效去除样品表面的有机污染物,提高图像质量和分析准确性。以下是等离子清洗 SEM 和 TEM 样品的工作原理:
1.等离子清洗的原理等离子清洗使用等离子(一种高度电离的气体)来去除污染物。通过将高频电磁场施加到低压气体(通常是氧气、氩气或氢气)上来产生等离子。该过程会产生高反应性的离子、电子和中性物质。
2. 去除污染物在等离子清洗过程中:
- 物理去除:等离子体中的高能离子轰击样品表面,以物理方式溅射掉污染物。
- 化学反应:等离子体中的活性物质可与污染物发生化学反应。例如,氧自由基可氧化有机材料,将其转化为易于去除的挥发性化合物。
3. 在SEM和TEM中的应用对于 SEM 样品:
- 净化:等离子清洗可去除指纹、油和空气中的颗粒物等有机残留物,这些残留物可能会遮挡细节或干扰电子束。
- 改进成像:通过清洁表面,等离子处理可减少充电效应并增强 SEM 和 TEM 图像的分辨率和对比度。
- 增强的分辨率和对比度:清洁的样品表面可以使电子和样品之间更好地相互作用,这对于在 SEM 和 TEM 中实现高分辨率和高对比度图像至关重要。
- 涂层准备:通常在将导电涂层涂到非导电样品之前使用,确保涂层附着良好且均匀。
4. 使用等离子清洗的优点- 对样品温和:与化学清洗方法不同,等离子清洗通常不会破坏样品表面。
- 快速高效:该过程可能需要几分钟到一个小时,具体取决于污染程度和样本大小。
- 多功能:适用于多种材料,包括金属、陶瓷和生物样本。