Ideales kreisförmiges Magnetron-Sputtertarget für Vakuum, Niob-Nb-Sputtertarget, 3 Zoll Durchmesser x 0,25 Zoll Dicke, 99,95 Prozent Reinheit

Bei diesem Produkt handelt es sich um ein kreisförmiges Magnetron-Sputtertarget aus Niob - Nb mit einem Durchmesser von 3 Zoll und einer Dicke von 0,25 Zoll. Es ist zu 99,95 % rein.

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NIOBIUM - Nb

Niob (Nb)-Sputtertargets werden aufgrund der einzigartigen elektrischen, mechanischen und supraleitenden Eigenschaften von Niob häufig bei der Dünnschichtabscheidung verwendet. Hier ist eine kurze Zusammenfassung von Niob-Sputtertargets für Dünnschichten:

1. Materialeigenschaften:
Hoher Schmelzpunkt: Niob hat einen hohen Schmelzpunkt (~2477 °C) und ist daher für Hochtemperaturanwendungen geeignet.
Korrosionsbeständigkeit: Niob ist oxidations- und korrosionsbeständig, insbesondere in sauren Umgebungen.
Supraleitung: Niob ist ein Schlüsselmaterial in supraleitenden Anwendungen, insbesondere aufgrund seiner hohen kritischen Temperatur (Tc) und seiner Fähigkeit, große supraleitende Ströme zu leiten.
Elektrische Leitfähigkeit: Niob ist ein leitfähiges Material und daher für elektronische und elektrische Dünnschichtanwendungen nützlich.

2. Ablagerungsmethoden:
Gleichstromsputtern: Da Niob leitfähig ist, wird häufig das Gleichstrom-Magnetronsputtern verwendet, das effiziente Abscheidungsraten ermöglicht.
HF-Sputtern: HF-Sputtern kann für spezielle Anwendungen oder in Verbindung mit reaktivem Sputtern zur Bildung von Niobverbindungen verwendet werden.
Reaktives Sputtern: Niob kann in einer reaktiven Atmosphäre (z. B. mit Sauerstoff oder Stickstoff) gesputtert werden, um für bestimmte Anwendungen Nioboxid (Nb2O5) oder Niobnitrid (NbN) zu bilden.

3. Anwendungen:
Supraleitende Filme: Niob ist ein Schlüsselmaterial in supraleitenden Filmen, die in supraleitenden Quanteninterferenzgeräten (SQUIDs), supraleitenden Schaltkreisen und Teilchenbeschleunigern verwendet werden.
Mikroelektronik: Niob-Dünnschichten werden aufgrund ihrer hervorragenden Leitfähigkeit und Stabilität in Kondensatoren, Verbindungselementen und als Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik verwendet.
Optische Beschichtungen: Niob wird in reflektierenden Beschichtungen und optischen Filtern verwendet. Durch reaktives Sputtern entsteht Niobpentoxid (Nb2O5), das in optischen Beschichtungen mit hohem Brechungsindex verwendet wird.
Schutzbeschichtungen: Aufgrund seiner Korrosions- und Oxidationsbeständigkeit eignet sich Niob für Schutzbeschichtungen in der chemischen Verarbeitung und bei Hochleistungsanwendungen.
Niobnitrid (NbN): Durch reaktives Sputtern hergestelltes NbN wird in supraleitenden Filmen, Hartbeschichtungen und verschleißfesten Schichten verwendet.

4. Filmeigenschaften:
Supraleitung: Dünne Niobfilme weisen bei niedrigen Temperaturen Supraleitung auf und sind daher für die Quantencomputertechnik und supraleitende Hochleistungsschaltkreise unverzichtbar.
Korrosionsbeständigkeit: Niobfilme bieten hervorragenden Schutz gegen Korrosion, insbesondere in aggressiven Umgebungen, und eignen sich daher gut für Schutz- und Barriereschichten.
Optische Eigenschaften: Nioboxidfilme (Nb2O5) haben einen hohen Brechungsindex (~2,2) und werden in optischen Beschichtungen verwendet.
Mechanische Festigkeit: Niobfilme sind stark und haltbar und daher für Anwendungen geeignet, bei denen Verschleißfestigkeit erforderlich ist.

5. Reaktive Abscheidung:
Niobpentoxid (Nb2O5): Nb2O5 wird durch reaktives Sputtern mit Sauerstoff gebildet und aufgrund seiner hohen Dielektrizitätskonstante und optischen Transparenz in optischen Beschichtungen, Dielektrika und Kondensatoren verwendet.
Niobnitrid (NbN): NbN-Filme werden in supraleitenden Anwendungen sowie in Hartbeschichtungen für Schneidwerkzeuge und verschleißfeste Oberflächen verwendet.

6. Herausforderungen:
Targetvergiftung: Beim reaktiven Sputtern kann es zu einer Targetvergiftung kommen, bei der sich auf dem Target nichtmetallische Verbindungen (z. B. Oxide oder Nitride) bilden, die die Sputtereffizienz verringern.
Innere Spannung: Bei der Abscheidung von Niobfilmen kann es zu inneren Spannungen kommen, die die mechanischen Eigenschaften und die Haftung des Films beeinträchtigen können.

Zusammenfassung:
Niob (Nb)-Sputtertargets werden häufig in Dünnschichten für Anwendungen in der Supraleitung, Mikroelektronik, optischen Beschichtungen und Schutzschichten verwendet. DC-Sputtern wird häufig zum Aufbringen von Niob-Dünnschichten verwendet, während reaktives Sputtern zum Bilden von Niobverbindungen wie Nb2O5 (optische Beschichtungen, Dielektrika) und NbN (supraleitende Schichten, Hartbeschichtungen) verwendet wird. Niob-Dünnschichten werden in verschiedenen Branchen wegen ihrer supraleitenden Eigenschaften, Korrosionsbeständigkeit und mechanischen Haltbarkeit geschätzt.

Hinweise:
Für alle dielektrischen Targetmaterialien wird eine metallische oder elastomere Trägerplattenverbindung empfohlen, da diese Materialien Eigenschaften aufweisen, die sich nicht zum Sputtern eignen, wie z. B. Sprödigkeit und geringe Wärmeleitfähigkeit. Diese Targets sind aufgrund ihrer geringen Wärmeleitfähigkeit am anfälligsten für Thermoschocks und erfordern daher während der Start- und Abschaltschritte möglicherweise spezielle Verfahren zum Hoch- und Herunterfahren der Leistung.