ExploraVAC PVD ボックスコーター、20 インチ立方ステンレス鋼、金属蒸着、法医学 VMD、金属薄膜、熱蒸発堆積、共堆積、4 つの熱ボート、自動手動操作モード、タッチスクリーンインターフェイス このボックス真空コーターシステムは、法医学的金属蒸着 (VMD) プロセス、特にラボ環境での潜在指紋の開発用に設計されています。チャンバーは 20 x 20 x 20 インチの立方体で、ステンレス鋼で作られています。蒸発ボート、ロッド、またはるつぼのいずれか用の 4 つの熱蒸発源があります。布、ガラス、紙などの平らな基板用の 6 インチ回転基板ホルダーなど、多くの機能を備えています。これは、弾丸の薬莢、水ガラス、ナイフ、ドアノブ、武器などの不規則なサンプル用の水平チャックスピンドルと交換可能です。基板プレート放射ヒーター 2 台、Inficon QCM センサー 2 台、手動および自動プロセス モードを備えた厚さコントローラーが組み込まれています。堆積プロセスは、シーケンシャルまたは 2 ポケット共堆積が可能です。その他の機能として、反応性堆積ガス入口ポート 2 個、重力シャッターと印刷の進行を観察するためのチャンバー照明を備えたドア ビューポート、空気圧ソースおよび基板シャッター、水冷式電極フィードスルー、フェイルセーフ メカニズム、スタック ライトとアラームの形での視覚および音声ステータス インジケーターがあります。システムには、すべてのチャンバーおよび堆積プロセス機能を制御できるオンボード Windows コンピューターによって実行される、期限切れのない基本バージョンの AutoExplor™ ソフトウェアを備えた 15.5 インチ タッチ スクリーン ディスプレイが組み込まれています。すべての電子部品は、北米向けの UL 認定を受けています。システムには、2 つのボート ソース電源 (4kW、400A)、2 つのバリアク - 45Aこのシステムは、VMD 用の一般的な金属 (金、銅、ニッケル、亜鉛、クロム、アルミニウム) を気化できます。チャンバーは、Edwards nXDS20i ドライ スクロール ポンプで粗引きされ、Pfeiffer HiPace 300 ターボ分子ポンプで適切に調整されたベース圧力 3 x 10-7 Torr まで微引きされます。VMD プロセスに合わせてレシピをカスタマイズできます。出荷前にプロセスを徹底的にテストします。SOP の対面または仮想トレーニングも、ご要望に応じて提供されます。当社のシステムには、標準で 1 年間の保証が付いています。リードタイムは、注文確定後 90 日です。 ExploraVAC PVD ボックスコーター、20 インチ: 内部シールド付きの完全密閉型 20 インチ溶接 SS 真空チャンバー 4 つのソース、1.0 cc、2 - 4 インチボート - タングステン、モリブデン、タンタル、ロッド、るつぼ VMD 金属: Au、Zn、Cu、Ni、Ti、Cr、Al、Sn、Ag、In 回転式基板ホルダー/スピンドル 空気圧シャッター 2 つの QCM センサー 基板放射ヒーター 重力シャッター付き 6 インチビューポート付きドア ビューポートを介したクイックラッチ式フロントドアクロージャ LED チャンバー照明 15.5 インチ LCD タッチスクリーンディスプレイ Edwards nXDS20i ドライスクロール真空ポンプ Pfeiffer HiPace 300 ターボポンプ ボートの見かけの電力測定と表示 蒸発器ソース電力 - 4kVA、400A 視覚的および音声による実行ステータスインジケーター フェイルセーフ機構熱 PVD の概要図 1. PVD プロセス中のボート内のターゲット材料の熱蒸発の概略図。熱蒸発物理蒸着 (PVD) は、真空環境で基板に材料の薄膜を蒸着するために使用される簡単な方法です。この方法では、金属と非金属の両方の膜を蒸着できます。蒸着プロセス中、材料は熱加熱されて溶融して蒸発し、その後蒸気が剥離して低温の基板上に凝縮して薄膜を形成します。Cr などの一部の材料は溶融せずに昇華するため、最適な蒸着蒸気圧が得られます。蒸気分子の平均自由行程は、チャンバー内の残留ガスとの衝突を回避するのに十分な長さでなければなりません。これは、蒸発を開始する前にベース圧力が計算されたしきい値を下回るようにすることで実現されます。当社のチャンバーは、Pfeiffer HiPace ターボ分子ポンプによって数分以内に 10-7 Torr 未満まで精密排気されます。このガス圧では、蒸気の平均自由行程が 40 インチ以上に増加します。これは、堆積プロセスの到達距離の約 4 倍です。これにより、システムの効率的で汚染のない堆積が保証されます。QCM センサーは、堆積速度と膜厚に関するフィードバックを常に提供するために PVD チャンバーに組み込まれた一般的な膜厚モニターです。用途: 法医学、真空金属堆積 (VMD) を使用した指紋マーク画像化指紋画像は、法執行機関やその他の関連政府機関、民間組織が法医学的犯罪捜査で利用する強力なツールです。真空金属堆積 (VMD) では、一対の金属薄膜を使用して、犯罪現場から回収された材料に存在する可能性のある潜在指紋をコーティングして現像します。指紋の残留物は、主に汗、油、その他の体液などの有機化合物で構成されています。これらの物質は、紙、ガラス、布地、木材、金属表面などの基材とは物理的および化学的に異なる層を形成します。 VMD では通常、最初に堆積されるフィルムは金で、次に亜鉛が堆積されます。 潜在指紋の開発には、クロム、銀、スズ、銅、アルミニウムも使用されています。 図 2。 (a) VMD によって開発された、弾丸の薬莢、ドル紙幣、窓ガラス、ファーストフード店の紙のレシート上の潜在指紋。 (b) 開発された指紋の顕微鏡画像。DNA を抽出してさらに法医学的分析を行うことができる領域を示しています。 亜鉛は金属であるため、指紋残留物の有機物と効果的に結合しません。 したがって、潜在指紋開発のための VMD 技術では、主に接着性を高め、金が指紋残留物に対して高コントラストの背景を作成するコントラストを改善するために、最初に金のフィルムが堆積されることがよくあります。 コーティングされたフィルムを 300～400nm の範囲で励起すると、印刷マークの視覚的な結果が最も良くなります。 2 番目の金属層 (通常は亜鉛) を堆積すると、残留物のない領域に強く付着して指紋の隆起が強調され、法医学的分析に使用できる明確で明確なパターンが作成されます。金は化学的に不活性でもあり、指紋の残留物やその後の金属層と反応しません。これにより、潜在指紋の完全性が維持され、正確で信頼性の高い現像と DNA の回収が保証されます (図 2(b))。図 3. ExploraVAC PVD ボックスコーターで銅とクロムのフィルムスタックを使用して VMD によって現像された窓ガラスの指紋。画像は、コントラストを向上させるために画像処理ソフトウェアによって処理されました。VMD は、布地や寝具などの大きな証拠品、または水中に投げ込まれた武器のように数か月間経った証拠品に指紋を現像できる唯一の方法であることがこれまでのところ証明されています。このため、このツールは、新たに発見された物理的証拠品を使用して未解決の刑事事件を解決するのに役立ちます。アイテムカテゴリ多孔質半多孔質非多孔質その他

ExploraVAC PVD VLTE 有機熱蒸発装置、20 インチ立方体ステンレススチール、有機物の低温蒸発装置、有機染料の LTE 堆積、OLEDS 発光層用有機薄膜堆積、6 つの熱るつぼ。このボックス真空コーターシステムは、実験室環境で温度に敏感な有機化合物および有機金属化合物を真空低温蒸発および堆積するために設計されています。チャンバーは 20 x 20 x 20 インチの立方体で、ステンレススチール製です。10 cc の積載容量と 15 cc の総容量を持つ 6 つの熱蒸発るつぼがあります。カスタムメイドの 6 インチ回転基板ホルダーなど、多くの機能を備えています。2 つの Inficon QCM センサーと、手動および自動プロセスモードを備えた組み込みの Inficon STM-2 厚さコントローラーを備えています。必要に応じて、基板ホルダーに放射ヒーターを追加できます。堆積プロセスは、シーケンシャルまたは共堆積が可能です。その他の機能として、2 つの反応性堆積ガス入口ポート、コーティングの進行状況を観察するための重力シャッターとチャンバー照明を備えたドア ビューポート、空気圧ソースおよび基板シャッター、フェイルセーフ メカニズム、スタック ライトとアラームの形での視覚および音声ステータス インジケーターがあります。システムには、AutoExplor™ ソフトウェアの期限なしの基本バージョンを備えた 15.5 インチ タッチ スクリーン ディスプレイが組み込まれており、オンボードの Windows コンピューターで実行され、すべてのチャンバーと堆積プロセス機能を制御できます。すべての電子部品は、北米向けの UL 認定を受けています。システムには、下部キャビネットに、直接見掛けるるつぼコイル電力、電圧、負荷電流測定モジュール、およびディスプレイ ユニットが取り付けられています。このシステムは、PMMA、AIQ3、CuPc、MAI、フラーレン - C60、および PTCDA や PDI などのペリレン誘導体などの一般的な有機および有機金属材料を気化できます。SiO2、TiO2、Al2O3、GeO2 の誘電体材料堆積用のさまざまな有機ベースの前駆物質も気化できます。チャンバーは、適切に調整されている場合、Edwards nXDS20i ドライスクロールポンプによって粗引きされ、Pfeiffer HiPace 300 ターボ分子ポンプによってベース圧力 3 x 10-7 Torr まで微引きされます。堆積前に、るつぼを 100 °C に加熱してサンプルを乾燥させることができます。クライオポンプが湿気を閉じ込めるために設置されています。各セラミックるつぼポケットは、サンプルの過熱が発生しないように PID 温度コントローラーを備えた加熱コイルに包まれています。VLTE プロセスに合わせてレシピをカスタマイズできます。出荷前にプロセスを徹底的にテスト実行します。ご要望に応じて、SOP の対面または仮想トレーニングも提供されます。当社のシステムには、標準で 1 年間の保証が付いています。リードタイムは、購入注文が確認されてから 90 日です。 ExploraVAC PVD VLTE 有機熱蒸発装置: 内部シールド付きの完全密閉型 20 インチ溶接 SS 真空チャンバー 6 つのるつぼ、15.0 cc、10 cc の負荷容量 るつぼ温度範囲: 30 ～ 800 °C アルミナ、ジルコニア、タングステン、グラファイト、石英るつぼと互換性あり 回転式基板ホルダー (カスタム) 空気圧シャッター 2 つの QCM センサー 基板放射ヒーター (オプション) 重力シャッター付き 6 インチ ビューポート付きドア ビューポートを介したクイックラッチ式フロントドア開閉 LED チャンバー照明 15.5 インチ LCD タッチスクリーンディスプレイ Edwards nXDS20i ドライスクロール真空ポンプ Pfeiffer HiPace 300 ターボポンプ 見かけのるつぼコイル電力測定および表示 最大コイル電力 - 160W 各るつぼの PID 温度制御 視覚および音声による実行ステータスインジケーター フェイルセーフメカニズム PVD 熱蒸発 堆積の概要図 1. PVD プロセス中のボート内のターゲット材料の熱蒸発の概略図。熱蒸発 物理蒸着 (PVD) は、真空環境で基板に材料の薄膜を堆積するために使用される簡単な方法です。この方法では、金属と非金属の両方の膜を堆積できます。堆積プロセス中、材料は熱加熱されて溶融して蒸発し、その後蒸気が剥離してより冷たい基板上に凝縮して、薄膜を形成します。Cr などの一部の材料は溶融せずに昇華するため、最適な堆積蒸気圧が得られます。蒸気分子の平均自由行程は、チャンバー内の残留ガスとの衝突を回避するのに十分な長さでなければなりません。これは、蒸発を開始する前にベース圧力が計算されたしきい値を下回るようにすることで実現されます。当社のチャンバーは、Pfeiffer HiPace ターボ分子ポンプによって数分以内に 10-7 Torr 未満まで精密排気されます。このガス圧では、蒸気の平均自由行程が 40 インチ以上に増加します。これは、堆積プロセスの到達距離の約 4 倍です。これにより、システムの効率的で汚染のない堆積が保証されます。QCM センサーは、堆積速度と膜厚に関するフィードバックを常に提供するために PVD チャンバーに組み込まれている一般的な膜厚モニターです。有機材料堆積における VLTE の原理真空低温蒸発 (VLTE) は、比較的低温の真空条件下で材料の薄膜を基板に堆積させるために使用される方法です。ソース材料は、分解または反応することなく蒸発するのに十分なだけ加熱されます。有機材料に関しては、多くの有機化合物が高温に敏感で、過度の熱にさらされると劣化する可能性があるため、この技術は特に有用です。VLTE では、堆積される材料は真空下でるつぼ内で蒸発または昇華するまで加熱されます。従来の熱蒸着の場合のように、材料は加熱要素と直接接触しません。真空環境により材料の沸点が下がり、より低い温度で蒸発できるようになります。次に、この蒸気が基板上で凝縮し、薄膜を形成します。有機材料の場合、このプロセスは分解を防ぎ、高品質のフィルムを確保するために注意深く制御されます。VTLEプロセスの動作温度範囲は約800°Cまで上がり、これを超えるとほとんどの熱的に安定した有機化合物が分解し始め、フィルムコーティングの化学構造が変化し、フィルムの欠陥につながります。VLTE有機ベースの薄膜コーティング材料の例図2。アルミニウムトリス（キノリン-8-オレート）AlQ3AlQ3は、融点が410〜430°Cの黄色の粉末です。AlQ3は、OLEDの電子輸送層として一般的に使用されます。これは、カソードから発光層への電子の輸送を促進します。 AlQ3 は発光層材料としても機能し、電子と正孔が再結合すると発光します。通常は緑色の光を発します。 図 3. ペリレン誘導体 ペリレン誘導体は、ペリレンから誘導される有機化合物の一種で、電荷輸送特性と発光特性に優れているため、有機太陽電池や光検出器によく使用されます。ペリレン誘導体の一例としては、ペリレンテトラカルボン酸二無水物 (PTCDA) があります。PTCDA は暗赤色の粉末で、融点は 403 °C です。有機電界効果トランジスタ (OFET)、有機太陽電池 (OPV)、有機発光ダイオード (OLED) に使用されます。熱安定性が高く、電子移動度が良好で、可視スペクトルでの吸収が強いのが特徴です。コーティングに赤色顔料を付けるために使用されます。 図 4. フラーレン - C60 フラーレン (例: C60) は濃い紫色で、融点は ~600 °C (昇華) です。フラーレンは、有機太陽電池 (OPV) の電子受容体として一般的に使用されています。フラーレンはドナー材料から電子を受け取り、効率的な電荷分離と輸送を促進します。フラーレンは電子親和力と電子移動度が高く、太陽電池の全体的な効率が向上します。C60 は、ペロブスカイト太陽電池、光検出器、有機発光ダイオード (OLED)、有機電界効果トランジスタ (OFET) の製造にも広く使用されています。図 5. ポリメチルメタクリレート (PMMA)PMMA は、光学コーティングやリソグラフィーのレジスト材料として使用される透明な熱可塑性ポリマーで、融点は 160 °C です。PMMA は、電子ビーム リソグラフィーのポジ型レジストとして広く使用されています。電子ビームにさらされると、PMMA は鎖切断され、露出した部分が現像液に溶けやすくなります。これにより、基板上に高解像度のパターンを作成できます。PMMA は、UV 光にさらすことで基板上にパターンを形成し、その後現像して露出した部分を除去するために使用できます。また、電子デバイスや光電子デバイスの誘電体材料としても使用され、PMMA は導電層またはコンポーネント間の絶縁層として機能します。優れた電気絶縁性を提供する利点があり、薄く均一な層に堆積できます。PMMA の優れた光学的透明性と光透過性により、光学コーティングに適しています。用途: 有機材料の低温蒸発 (VLTE) 1. 有機光起電力 (OPV): 有機薄膜は、光を吸収して電気に変換するために太陽電池で使用されます。VLTE により、活性層を正確に堆積できるため、OPV の効率が向上します。2. 有機薄膜トランジスタ (OTFT): フレキシブル電子機器やディスプレイに使用されます。VLTE は、デバイスのパフォーマンスを向上させる高品質の有機半導体層を提供します。3. センサー: 有機材料は、化学センサーや生物センサーに使用できます。VLTE により、ターゲット分析物と相互作用できる敏感な有機フィルムを堆積できます。4.有機レーザー: さまざまな光学用途で使用するための有機半導体レーザーの開発。有機フィルムの厚さと組成を正確に制御する必要がありますが、これは VLTE によって実現できます。5. 有機発光ダイオード (OLED): VLTE は、ディスプレイや照明に不可欠な OLED の有機層を堆積するために使用されます。これにより、効率的な発光とデバイスのパフォーマンスに必要な均一な薄膜が確保されます。シンプルな OLED (有機発光ダイオード) の層の配置は、下から上に向かって次のように説明できます。図 6. 有機発光ダイオードの基本構造基板: これは通常、ガラスまたは柔軟なプラスチック材料で作られており、OLED に機械的サポートを提供します。アノード: 通常はインジウムスズ酸化物 (ITO) で作られた透明な層で、光を通過させ、デバイスに正電荷キャリア (正孔) を注入します。正孔輸送層 (HTL): この層は、アノードから発光層への正孔の輸送を促進します。発光層 (EML): 光が生成される OLED の中核。この層には、電極間に電圧が印加されると発光する有機分子またはポリマーが含まれています。電子輸送層 (ETL): この層は、カソードから発光層への電子の輸送を促進します。カソード: 通常はアルミニウムやカルシウムなどの材料で作られた金属層で、デバイスに電子を注入します。OLED (有機発光ダイオード) は、鮮やかな色、高コントラスト、柔軟性、エネルギー効率により、さまざまな用途に使用されています。主な用途は次のとおりです。ディスプレイ画面: スマートフォン: ハイエンド ディスプレイ。テレビ: 優れた画質。ウェアラブル デバイス: スマートウォッチとフィットネス トラッカー。モニター: プロフェッショナルな視覚作業。デジタル サイネージ: 公共広告と情報ディスプレイ。フレキシブル ディスプレイ: 折りたたみ式および巻き取り式の画面。概要真空低熱蒸発は、有機薄膜の堆積に不可欠な技術であり、温度制御と膜の均一性の点で利点があります。材料の感度やプロセスの複雑さに関連する課題にもかかわらず、これは高度な有機電子デバイスや光電子デバイスの製造において重要な役割を果たします。高品質のフィルムを実現し、有機ベースのデバイスの性能と信頼性を確保するには、堆積パラメータを適切に最適化して制御することが不可欠です。