Ideale kreisförmige Vakuum-Magnetron-Sputtertargets, Nioboxid- _{Nb2O5 -} Sputtertarget, 3 Zoll Durchmesser x 0,125 Zoll Dicke, 99,995 Prozent Reinheit, metallisch verbunden mit einer OFHC-Kupfer-Trägerplatte

Bei diesem Produkt handelt es sich um ein kreisförmiges Magnetron-Sputtertarget aus _{Nioboxid - Nb2O5 mit} einem Durchmesser von 3 Zoll und einer Dicke von 0,125 Zoll. Es hat eine Reinheit von 99,995 % und ist metallisch mit einer OFHC-Kupferträgerplatte (Oxygen-Free High Conductivity, hohe sauerstofffreie Leitfähigkeit) verbunden.

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NIOBIOXID – Nb ₂ O ₅
Nioboxid ( _{Nb2O5 )} ist aufgrund seiner hervorragenden optischen, dielektrischen und katalytischen Eigenschaften ein wertvolles Material für Dünnschichten. Hier ist eine Zusammenfassung seiner wichtigsten Eigenschaften: 1. Brechungsindex: Brechungsindex: ~2,2 bis 2,4 (bei 550 nm), was es zu einem Material mit hohem Brechungsindex macht. Sein hoher Brechungsindex macht es ideal für optische Beschichtungen, insbesondere in Mehrschichtstrukturen wie Antireflexbeschichtungen, optischen Filtern und Wellenleitern.

2. Optische Transparenz: Transmissionsfenster: Nb2O5 ist vom sichtbaren bis zum infraroten Bereich (~400 nm bis 5 µm) transparent und eignet sich daher für eine Vielzahl optischer Anwendungen. Es wird häufig in optischen Beschichtungen für Linsen, Spiegel und photonische Geräte verwendet.

3. Dielektrische Eigenschaften: Hohe Dielektrizitätskonstante: Nb2O5 hat eine hohe Dielektrizitätskonstante (20-40), was es für Kondensatoren, Speichergeräte und andere elektronische Komponenten mit hoher Kapazität nützlich macht. Es wird auch als Gate-Dielektrikum in Dünnschichttransistoren verwendet.

4. Chemische und thermische Stabilität: Nb2O5 ist chemisch stabil und korrosionsbeständig. Es bietet eine ausgezeichnete Stabilität bei hohen Temperaturen und ist daher ein zuverlässiges Material für dünne Filme, die in anspruchsvollen Umgebungen eingesetzt werden. Seine thermische Stabilität gewährleistet seine Leistung bei Anwendungen, die hohen Temperaturen ausgesetzt sind.

5. Mechanische Eigenschaften: Nb2O5 ist hart und langlebig und verleiht Dünnschichtbeschichtungen eine ausgezeichnete mechanische Festigkeit, wodurch es sich für Schutzbeschichtungen und abriebfeste Schichten eignet.

6. Abscheidungsmethoden: Nb2O5-Dünnschichten können mithilfe verschiedener Techniken abgeschieden werden, darunter HF-Sputtern, reaktives Sputtern (unter Verwendung von Niobmetall mit Sauerstoffgas), thermische Verdampfung und Elektronenstrahlverdampfung. Für hochpräzise Dünnschichten können sie auch durch Atomlagenabscheidung (ALD) abgeschieden werden.

7. Anwendungen: Optische Beschichtungen: Aufgrund ihres hohen Brechungsindex und ihrer Transparenz werden sie in Antireflexbeschichtungen, optischen Filtern und Wellenleitern verwendet.

Mikroelektronik: Nb2O5 wird in Kondensatoren, Dünnschichttransistoren und als High-k-Dielektrikum in Halbleiterbauelementen verwendet.

Katalyse: Nb2O5 ist auch für seine katalytischen Eigenschaften bekannt und wird in Anwendungen wie Photokatalyse und Brennstoffzellen eingesetzt.

Schutzbeschichtungen: Bietet hervorragende Verschleißfestigkeit und Korrosionsschutz in industriellen Anwendungen.

Zusammenfassung: Niobpentoxid (Nb2O5) ist ein Material mit hohem Brechungsindex und hervorragenden optischen und dielektrischen Eigenschaften, was es zu einer beliebten Wahl für optische Beschichtungen und elektronische Anwendungen macht. Seine chemische Stabilität, Dielektrizitätskonstante und hohe Transparenz machen es für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen geeignet, darunter Kondensatoren, Antireflexbeschichtungen und photonische Geräte.

Hinweise:
Für alle dielektrischen Targetmaterialien wird eine metallische oder elastomere Trägerplattenverbindung empfohlen, da diese Materialien Eigenschaften aufweisen, die sich nicht zum Sputtern eignen, wie z. B. Sprödigkeit und geringe Wärmeleitfähigkeit. Diese Targets sind aufgrund ihrer geringen Wärmeleitfähigkeit am anfälligsten für Thermoschocks und erfordern daher während der Start- und Abschaltschritte möglicherweise spezielle Verfahren zum Hoch- und Herunterfahren der Leistung.