Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、酸化チタン - TiO2 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.99 パーセント - ホワイト、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合 Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン TiO2 スパッタリング ターゲット (ホワイト) です。純度 99.99% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送されることを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。二酸化チタン二酸化チタン (TiO2) は、その高い屈折率と安定性から広く使用されている白色の結晶性化合物です。ルチル、アナターゼ、ブルッカイトの 3 つの主要な形態があります。TiO2 は、その優れた不透明性と明るさから、主に塗料、コーティング、プラスチックの顔料として使用されます。二酸化チタン (白) は、主にその高い屈折率から光学コーティングに使用され、反射防止、干渉、高反射率コーティングに最適です。誘電体ミラーやフィルターなどの多層光学設計で使用され、特定の波長範囲での反射率または透過率を高めます。可視から近赤外スペクトルにおける安定性と透明性により、精密な光制御と高い光学品質が求められるレンズ、ビームスプリッター、保護コーティングにも適しています。RF 対 DC スパッタリング: 純粋な金属酸化物は絶縁体であり、RF にはターゲット表面での電荷の蓄積を防ぐ交流電界があるため、RF スパッタリングは純粋な金属酸化物のスパッタリングによく使用される方法です。この交流電界により、DC スパッタリングでアーク放電を引き起こす電荷の蓄積が軽減されます。堆積速度: 堆積速度が低い: RF スパッタリングでは、主に電界の交流特性により、プラズマへの電力伝達は DC に比べて効率が低くなります。このため、同等の電力条件下では、DC スパッタリングに比べて堆積速度が低くなります。ターゲット材料: 導電性ターゲット (反応性スパッタリングのチタンなど) の場合、DC スパッタリングの方が堆積速度が速くなります。純粋な金属酸化物などの絶縁ターゲットの場合、RF スパッタリングを使用する必要があり、堆積速度は通常低くなります。電力レベル: 電力を増加すると、RF スパッタリングと DC スパッタリングの両方で堆積速度が速くなりますが、導電性材料の場合、堆積速度は DC の方が高くなる傾向があります。圧力とガス流量: ガス圧力とガス流量を最適化することで、RF と DC で異なる最適条件でより高い堆積速度を実現できます。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキングプレート接合をお勧めします。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの段階で特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、酸化ジルコニウム - ZrO2 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.99 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合 Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン ZrO2 スパッタリング ターゲットです。純度 99.99% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。酸化ジルコニウム 二酸化ジルコニウム (ZrO2) はジルコニアとも呼ばれ、ジルコニウムと酸素で構成される無機化合物です。白色の結晶性固体で、並外れた硬度、化学的安定性、高い融点が特徴です。ZrO2 は、その堅牢な物理的特性と汎用性により、さまざまな産業および科学的用途で広く使用されています。二酸化ジルコニウム (ZrO2) は、その並外れた熱的、化学的、および光学的特性により、薄膜コーティングで広く使用されています。その高い屈折率、化学的安定性、および機械的耐久性により、さまざまな高度な薄膜用途に最適な材料となっています。薄膜コーティングにおける ZrO2 の主な用途は次のとおりです。1. 光学コーティング。2. 誘電体層。3. 保護およびバリアコーティング。4. 熱バリアコーティング。二酸化ジルコニウムの薄膜は、高屈折率、誘電強度、熱安定性のユニークな組み合わせにより、光学デバイス、マイクロエレクトロニクス、保護コーティング、高温システムなど、幅広い高度なアプリケーションで使用されています。RF 対 DC スパッタリング: RF スパッタリングは、純粋な金属酸化物をスパッタリングするための好ましい方法です。金属酸化物は絶縁体であり、RF にはターゲット表面での電荷の蓄積を防ぐ交番電界があるためです。この交番電界により、DC スパッタリングでアーク放電を引き起こす電荷の蓄積が軽減されます。堆積速度: 堆積速度が低い: RF スパッタリングでは、主に交番電界の性質により、プラズマへの電力伝達は DC に比べて効率が低くなります。この結果、同等の電力条件下では、DC スパッタリングに比べて堆積速度が低くなります。ターゲット材料: 導電性ターゲット (反応性スパッタリングのチタンなど) の場合、DC スパッタリングの方が堆積速度が高くなります。純粋な金属酸化物などの絶縁ターゲットの場合、RF スパッタリングを使用する必要がありますが、堆積速度は通常低くなります。電力レベル: 電力を上げると、RF スパッタリングと DC スパッタリングの両方で堆積速度を上げることができますが、導電性材料の場合、堆積速度は依然として DC の方が高くなる傾向があります。圧力とガス流量: ガス圧力とガス流量を最適化することで、より高い堆積速度を実現できます。RF と DC では最適条件が異なります。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや低熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキングプレート接合をお勧めします。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動時とシャットダウン時に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、窒化ケイ素 - Si3N4 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.5 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合 Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン 窒化ケイ素 - Si3N4 スパッタリング ターゲットです。純度 99.5 パーセントで、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争相手より一歩先を行くことができます。窒化ケイ素 - Si3N4 窒化ケイ素 - Si3N4 は、その機械的、化学的、および光学的特性により、さまざまな用途の薄膜コーティングに使用される多用途の材料です。薄膜における主な特性を以下にまとめます。屈折率: 約 1.9 ～ 2.0 (550 nm) で、多層光学コーティングでよく使用される中屈折率材料です。光学特性: Si3N4 は可視から赤外範囲 (約 250 nm ～ 8 µm) にわたって優れた透明性を備えているため、反射防止コーティング、導波管、フォトニクスに適しています。機械的特性: 硬く、耐摩耗性があり、熱安定性が高いため、耐久性と耐環境性を必要とするコーティングに最適です。化学的安定性: Si3N4 は化学的に不活性で、優れた耐腐食性を備えているため、保護コーティングに便利です。堆積方法: Si3N4 は、RF または反応性スパッタリング (窒素を含むシリコンターゲットを使用) や PECVD (プラズマ強化化学蒸着) によって堆積できます。用途: 絶縁特性と耐熱性があるため、光学コーティング、半導体デバイス、保護コーティング、マイクロエレクトロニクスでよく使用されます。拡散バリアとして機能します。Si3N4 は光学的性能と機械的強度の組み合わせが高く評価されており、機能的および保護的薄膜コーティングの両方に使用できます。RF 対 DC スパッタリング: 純粋な金属酸化物は絶縁体であり、RF にはターゲット表面での電荷の蓄積を防ぐ交流電界があるため、RF スパッタリングは多くの場合、純粋な金属酸化物のスパッタリングに好まれる方法です。この交流電界により、DC スパッタリングでアーク放電を引き起こす電荷の蓄積が軽減されます。堆積速度: 堆積速度が低い: RF スパッタリングでは、主に電界の交流特性により、プラズマへの電力伝達は DC に比べて効率が低くなります。この結果、同等の電力条件下では、DC スパッタリングに比べて堆積速度が低くなります。ターゲット材料: 導電性ターゲット (反応性スパッタリングのチタンなど) の場合、DC スパッタリングの方が堆積速度が速くなります。純粋な金属酸化物などの絶縁ターゲットの場合、RF スパッタリングを使用する必要があり、堆積速度は通常低くなります。電力レベル: 電力を増やすと、RF スパッタリングと DC スパッタリングの両方で堆積速度を上げることができますが、導電性材料の場合、堆積速度は DC の方が高くなる傾向があります。圧力とガス流量: ガス圧力とガス流量を最適化することで、RF と DC で異なる最適条件でより高い堆積速度を実現できます。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの段階で特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、マグネシウム フッ化物 - MgF2 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.995 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合 Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン マグネシウム フッ化物 - MgF2 スパッタリング ターゲットです。純度 99.995% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争相手より一歩先を行くことができます。フッ化マグネシウム - MgF2 フッ化マグネシウム - MgF2 は、その優れた透過特性と耐久性により、光学用途で広く使用されている材料です。主な特性の概要は次のとおりです。屈折率: 約 1.38 (550 nm) で、低屈折率材料です。透明範囲: MgF2 は透過ウィンドウが広く、深紫外線 (約 120 nm) から中赤外線 (約 7 µm) まで透過するため、紫外線、可視光線、赤外線の用途に適しています。光学コーティング: レンズ、フィルター、その他の光学部品の反射防止コーティングや多層光学コーティングによく使用されます。耐久性: MgF2 は硬く化学的に安定しており、環境劣化に耐性があり、過酷な条件での使用に適しています。堆積方法: 絶縁性があるため、通常は RF スパッタリングで堆積されます。MgF2 は、光学的透明性が広く屈折率が低いためよく選ばれ、さまざまな光学システムで反射率を下げるのに最適です。RF スパッタリングと DC スパッタリング: 純粋な金属酸化物は絶縁体であり、RF にはターゲット表面での電荷の蓄積を防ぐ交流電界があるため、RF スパッタリングがスパッタリングの好ましい方法となることがよくあります。この交番電界により、DC スパッタリングでアーク放電を引き起こす電荷の蓄積が軽減されます。堆積速度: 堆積速度が低い: RF スパッタリングでは、主に電界の交番特性により、DC に比べてプラズマへの電力伝達効率が低くなります。このため、同等の電力条件下では、DC スパッタリングに比べて堆積速度が低くなります。ターゲット材料: 導電性ターゲット (反応性スパッタリングのチタンなど) の場合、DC スパッタリングの方が堆積速度が高くなります。純粋な金属酸化物などの絶縁ターゲットの場合は、RF スパッタリングを使用する必要があり、堆積速度は通常低くなります。電力レベル: 電力を増加すると、RF スパッタリングと DC スパッタリングの両方で堆積速度が高くなりますが、導電性材料の場合は、DC スパッタリングの方が堆積速度が高くなる傾向があります。圧力とガス流量: ガス圧力とガス流量を最適化することで、堆積速度を高めることができます。RF と DC では最適な条件が異なります。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料には金属またはエラストマーのバッキング プレート ボンディングが推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少の手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、窒化チタン - TiN スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.5 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン 窒化チタン - TiN スパッタリング ターゲットです。純度 99.5 パーセントで、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えることができるため、保管コストが削減され、陳腐化のリスクが最小限に抑えられます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。窒化チタン - TiN 窒化チタン (TiN) は、機械的、電気的、および光学的特性のユニークな組み合わせにより、薄膜用の一般的な材料です。薄膜での主な機能と用途の概要は次のとおりです。屈折率: TiN は屈折率が比較的高い (可視範囲で約 2.4 ～ 3.0) ため、高い反射率または特定の干渉効果が必要な光学用途に役立ちます。機械的特性: TiN は非常に硬く、耐摩耗性があり、硬度はダイヤモンドに近づいています。切削工具、機械加工部品、耐摩耗性表面の保護コーティングとして一般的に使用されています。化学的および熱的安定性: TiN は化学的に不活性で、耐腐食性があり、高温でも安定しているため、過酷な環境や高温の用途に適しています。電気伝導性: TiN は電気伝導性があり、これはセラミック材料としては珍しいことです。このため、マイクロエレクトロニクスでは、電極などのコンポーネントの拡散バリアや導電性コーティングとして役立ちます。堆積方法: TiN は、DC または RF スパッタリング、反応性スパッタリング (チタン ターゲットと窒素ガスを使用)、物理蒸着 (PVD) など、いくつかの技術を使用して堆積できます。色と外観: TiN は独特の黄金色の外観をしているため、ジュエリーや高級品の装飾コーティングにも使用されます。用途: 光学コーティング、マイクロエレクトロニクス、切削工具コーティング、保護層、拡散バリア、装飾仕上げによく使用されます。要約すると、チタン窒化物は、その硬度、耐腐食性、および導電性により薄膜アプリケーションで高く評価されており、ツールからエレクトロニクスや光学に至るまでのさまざまな業界で多目的に選択できます。RF 対 DC スパッタリング: 純粋な金属酸化物は絶縁体であり、RF にはターゲット表面での電荷の蓄積を防ぐ交流電界があるため、RF スパッタリングは多くの場合、純粋な金属酸化物をスパッタリングするための好ましい方法です。この交番電界により、DC スパッタリングでアーク放電を引き起こす電荷の蓄積が軽減されます。堆積速度: 堆積速度が低い: RF スパッタリングでは、主に電界の交番特性により、DC に比べてプラズマへの電力伝達効率が低くなります。このため、同等の電力条件下では、DC スパッタリングに比べて堆積速度が低くなります。ターゲット材料: 導電性ターゲット (反応性スパッタリングのチタンなど) の場合、DC スパッタリングの方が堆積速度が高くなります。純粋な金属酸化物などの絶縁ターゲットの場合は、RF スパッタリングを使用する必要があり、堆積速度は通常低くなります。電力レベル: 電力を増加すると、RF スパッタリングと DC スパッタリングの両方で堆積速度が高くなりますが、導電性材料の場合は、DC スパッタリングの方が堆積速度が高くなる傾向があります。圧力とガス流量: ガス圧力とガス流量を最適化することで、堆積速度を高めることができます。RF と DC では最適条件が異なります。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料には金属またはエラストマーのバッキング プレート ボンディングが推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少の手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、酸化タンタル - Ta2O5 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.995 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン 酸化タンタル - Ta2O5 スパッタリング ターゲットです。純度 99.995% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えることができるため、保管コストが削減され、陳腐化のリスクが最小限に抑えられます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。タンタル酸化物 - Ta2 O5五酸化タンタル五酸化タンタル (Ta2O5) は、タンタルと酸素からなる無機化合物です。高屈折率、優れた化学的安定性、誘電特性で知られる白色の結晶性粉末です。Ta2O5 は、そのユニークな特性の組み合わせにより、光学および電子アプリケーションで広く使用されています。五酸化タンタル (Ta2O5) は、その優れた光学的、電子的、誘電的特性により、薄膜コーティングで広く使用されています。その汎用性と、安定した高品質のフィルムを形成する能力により、さまざまな高性能アプリケーションに最適です。1. 高屈折率コーティング: Ta2O5 は、レンズ、ミラー、フィルターの多層光学コーティングに使用されます。その高い屈折率により、精密な反射防止コーティングと高反射コーティングを作成できます。2. 反射防止コーティング: レンズやディスプレイの光透過率を高める反射防止コーティングを生成するために、屈折率の低い材料と組み合わせて使用されます。3. バリア層: 多層構造の酸化や腐食に対する保護層として使用されます。4. 電気光学デバイスとフォトニックデバイス: 五酸化タンタルは、高屈折率 (550 nm で約 2.1 ～ 2.2)、誘電強度、化学的安定性のユニークな組み合わせにより、光学、電子工学、フォトニクスの薄膜コーティングに欠かせない材料となり、高性能デバイスとシステムの開発を可能にします。堆積方法: Ta2O5 薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング (タンタルと酸素ガスを使用)、電子ビーム蒸着を使用して堆積できます。また、原子層堆積 (ALD) を使用して堆積し、マイクロエレクトロニクスの精密なコンフォーマルコーティングに使用されます。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキングプレート接合をお勧めします。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの段階で特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.995 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン酸化ニオブ Nb2O5 スパッタリング ターゲットです。純度 99.995% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えて、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。酸化ニオブ - Nb2O5酸化ニオブ (Nb2O5) は、その優れた光学特性、誘電特性、触媒特性により、薄膜用の貴重な材料です。主な特徴を次に示します。1. 屈折率: 屈折率: ~2.2 ～ 2.4 (550 nm で) で、高屈折率材料です。その高屈折率により、光学コーティング、特に反射防止コーティング、光学フィルター、導波路などの多層構造に最適です。2.光学的透明性：透過ウィンドウ：Nb2O5 は可視から赤外範囲（約 400 nm から 5 µm）まで透明であるため、幅広い光学用途に適しています。レンズ、ミラー、フォトニック デバイスの光学コーティングによく使用されます。3. 誘電特性：高誘電率：Nb2O5 は誘電率が高く（20～40）、コンデンサ、メモリ デバイス、高容量を必要とするその他の電子部品に便利です。また、薄膜トランジスタのゲート誘電体材料としても使用されます。4. 化学的および熱的安定性：Nb2O5 は化学的に安定しており、耐腐食性があります。高温下でも優れた安定性を発揮するため、厳しい環境で使用される薄膜に信頼性の高い材料です。その熱安定性により、高温にさらされる用途でも性能を発揮します。5. 機械的特性：Nb2O5 は硬くて耐久性があり、薄膜コーティングに優れた機械的強度を提供するため、保護コーティングや耐摩耗層に便利です。6.堆積方法: Nb2O5 薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング (ニオブ金属と酸素ガスを使用)、熱蒸発、電子ビーム蒸発など、さまざまな技術を使用して堆積できます。また、高精度の薄膜用に原子層堆積 (ALD) によって堆積することもできます。7. 用途: 光学コーティング: 屈折率と透明性が高いため、反射防止コーティング、光学フィルター、導波管に使用されます。マイクロエレクトロニクス: Nb2O5 は、コンデンサ、薄膜トランジスタ、および半導体デバイスの高 k 誘電体材料として使用されます。触媒: Nb2O5 は触媒特性でも知られており、光触媒や燃料電池などの用途に使用されます。保護コーティング: 産業用途で優れた耐摩耗性と腐食保護を提供します。概要: 五酸化ニオブ (Nb2O5) は、優れた光学特性と誘電特性を備えた高屈折率材料であり、光学コーティングや電子用途でよく使用されます。化学的安定性、誘電率、および高い透明性により、コンデンサ、反射防止コーティング、およびフォトニック デバイスを含むさまざまな薄膜アプリケーションに適しています。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキング プレート ボンディングが推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力の増減手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、酸化アルミニウム - Al2O3 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.99 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン酸化アルミニウム - Al2O3 スパッタリング ターゲットです。純度 99.99% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑え、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。酸化アルミニウム - Al2O31. 屈折率：屈折率：約 1.63（550 nm で）で、低屈折率から中屈折率の材料になります。この特性により、反射防止コーティング、誘電体ミラー、フィルターなどの多層光学コーティングに適しています。2. 光学的透明性：透過ウィンドウ：Al2O3 は、紫外線（UV）から赤外線（IR）の範囲（約 200 nm から約 5 µm）まで非常に透明です。これにより、UV、可視光線、IR 波長のさまざまな光学アプリケーションに適しています。3.機械的特性: Al2O3 は非常に硬く、耐摩耗性に優れているため、機械的ストレスを受ける表面の保護コーティングや耐摩耗層に最適です。また、その高い機械的強度により、過酷な環境でのマイクロエレクトロニクスや保護コーティングにも適しています。4. 化学的および熱的安定性: Al2O3 は化学的に不活性で、腐食や酸化に強いため、化学的に過酷な環境での使用に適しています。熱安定性が高いため、高温の用途に便利です。5. 誘電特性: 高い誘電率: Al2O3 は比較的高い誘電率 (約 9) を備えているため、ゲート誘電体や電子用途のコンデンサーとして使用できます。半導体デバイスでは優れた絶縁層として機能し、優れた電気絶縁性と熱安定性を提供します。6. 堆積方法: Al2O3 薄膜は、RF スパッタリング、反応性スパッタリング、原子層堆積 (ALD)、熱蒸発など、さまざまな方法で堆積できます。ALD は、半導体やナノテクノロジー用途の極薄コンフォーマルコーティングに特に好まれています。7.アプリケーション: 光学コーティング: Al2O3 は、反射防止コーティング、光学部品の保護コーティング、多層誘電体ミラーの一部として一般的に使用されています。 マイクロエレクトロニクス: Al2O3 は、MOSFET のゲート絶縁体、コンデンサ、半導体デバイスのパッシベーション層として広く使用されています。 保護コーティング: 硬度と耐摩耗性および耐薬品性のため、工業用途では表面を保護するために使用されます。 バリアコーティング: Al2O3 は優れた拡散バリアを提供し、パッケージングおよび防湿層に使用されます。 概要: 酸化アルミニウム (Al2O3) は、薄膜の多用途材料で、光学的透明性、機械的耐久性、化学的不活性、および誘電特性を備えています。 光学コーティング、マイクロエレクトロニクス、保護層、バリアコーティングに広く使用されており、半導体デバイスから耐摩耗性コーティングや光学素子まで、さまざまな用途に使用されています。 透明性と安定性を兼ね備えているため、さまざまな業界の高性能コーティングに不可欠な材料となっています。注: すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、シリコン - Si (非ドープ) スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.999 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン シリコン - Si (非ドープ) スパッタリング ターゲットです。純度 99.999% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様には大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様には注文後即日出荷を保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいと考えているすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えることができるため、保管コストが削減され、陳腐化のリスクが最小限に抑えられます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。シリコン - Si (非ドープ) シリコン - Si (非ドープ): 非ドープ シリコン (Si) スパッタリング ターゲットは、特に半導体、オプトエレクトロニクス、太陽電池などのさまざまな業界で薄膜堆積に広く使用されています。主な特徴を次に示します。1. 材料特性: 電気伝導性: 非ドープ シリコンは、室温での電気伝導性が比較的低い半導体です。導電性が重要な用途では注意深い取り扱いが必要ですが、高温になると導電性になります。純度: 高純度の非ドープシリコンターゲットは半導体用途でよく使用され、その純度は通常 99.99% を超え、電子機器グレードの材料の場合は 99.999% を超えることもあります。結晶構造: シリコンターゲットは、アモルファス、多結晶、単結晶のいずれかです。構造の選択は膜の特性に影響し、単結晶シリコンは薄膜用途に優れた電気特性を提供します。> 2. 堆積方法: RF スパッタリング: 非ドープシリコンは半導体であるため、薄膜堆積には通常 RF スパッタリングが使用されます。DC スパッタリングではターゲット上に電荷が蓄積し、非ドープシリコンのような非導電性または半導体材料には非効率になるため、これが必要です。膜の品質: 非ドープシリコンターゲットを使用して堆積された膜は均一性が高く、半導体、光学コーティング、および太陽光発電の製造によく使用されます。> 3. 用途: マイクロエレクトロニクス: 非ドープシリコンスパッタリングターゲットは、集積回路、トランジスタ、およびその他の半導体デバイスの薄膜の製造に不可欠です。太陽電池: ドープされていないシリコン (特にアモルファス シリコンまたは微結晶シリコン) の薄膜は、エネルギー変換用の太陽電池で使用されます。オプトエレクトロニクス: シリコン膜は、赤外線検出器、光検出器、および MEMS デバイスで採用されています。パッシベーション層: 半導体デバイスの製造では、シリコン膜はパッシベーション層として、または後続のドーピングや酸化のベース材料として使用されます。> 4. 膜の特性: 電気的特性: ドープされていないシリコン ターゲットから作成されたシリコン膜は固有の半導体であり、ドーピングするか外部要因 (温度や光など) にさらされない限り導電性が低くなります。光学的特性: ドープされていないシリコン薄膜は可視スペクトルでは不透明ですが、赤外線では透明なので、IR 光学およびフォトニクス アプリケーションに適しています。> 5. 課題: 電荷の蓄積: 半導体であるドープされていないシリコンは、ターゲット上で電荷が蓄積するため、DC 方式を使用して効率的にスパッタリングすることができません。そのため、均一な堆積を確実に行うには RF スパッタリングが不可欠です。ターゲット品質: シリコン ターゲットの純度と結晶構造は、特に高性能半導体および光学アプリケーションの場合、堆積した薄膜の欠陥を回避するために注意深く制御する必要があります。> 概要: 非ドープ シリコン スパッタリング ターゲットは、主に半導体、太陽電池、およびオプトエレクトロニクスで使用されます。半導体の性質上、ターゲット上の電荷の蓄積を回避するために、通常は RF スパッタリングが使用されます。非ドープ シリコンから生成されたフィルムは、その電気的、光学的、および機械的特性のために使用され、集積回路から赤外線光学までさまざまな用途に使用されています。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや低熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキング プレート ボンディングが推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、二酸化ケイ素 - SiO2 スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチ、純度 99.995 パーセント、OFHC 銅バッキング プレートに金属結合。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.125 インチの円形マグネトロン二酸化ケイ素 - SiO2 スパッタリング ターゲットです。純度 99.995% で、OFHC (無酸素高伝導性) 銅バッキング プレートに金属結合されています。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後すぐに発送することを保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンドタイムでキャッシュフローを管理したいと考えているすべてのお客様に喜ばれています。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えることができるため、保管コストが削減され、陳腐化のリスクが最小限に抑えられます。Ideal Vacuum から購入すると、お客様はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、お客様は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。二酸化ケイ素 - SiO2 二酸化ケイ素 (SiO2 ) は、その優れた光学特性、誘電特性、保護特性により、薄膜コーティングで最も一般的に使用される材料の 1 つです。薄膜における SiO2 の簡潔な概要は次のとおりです。1. 屈折率: 屈折率: ~1.45 (550 nm で) で、低屈折率材料です。低屈折率層が必要な反射防止コーティングや誘電体ミラーなどの光学コーティングに広く使用されています。2.光学的透明性: 透過ウィンドウ: SiO2 は、紫外線 (UV) (~160 nm) から赤外線 (IR) (~2.5 µm) まで、幅広い透過範囲を持っています。このため、可視、UV、IR スペクトル範囲のコーティングに最適な材料です。3. 誘電特性: 低誘電率: SiO2 は誘電率が比較的低い (~3.9) ため、マイクロエレクトロニクスや半導体の絶縁層として役立ちます。MOSFET などのデバイスでは、効果的な誘電バリアとして機能します。4. 化学的および熱的安定性: SiO2 は化学的に不活性であるため、腐食や酸化に対して非常に耐性があります。優れた熱安定性を備えているため、さまざまな用途で高温に耐えることができます。5. 機械的特性: SiO2 は硬く、耐摩耗性に優れているため、薄膜コーティングの保護材料として使用できます。ただし、脆いため、機械的ストレスがかかる用途では注意が必要です。6.堆積方法: SiO2 薄膜は、RF スパッタリング、化学蒸着 (CVD)、熱蒸発、電子ビーム蒸着などのさまざまな技術を使用して堆積できます。RF スパッタリングは、薄く均一な SiO2 コーティングによく使用されます。7. 用途: 光学コーティング: SiO2 は、反射防止コーティング、高/低屈折率多層コーティング、および光学用保護コーティングに広く使用されています。マイクロエレクトロニクス: SiO2 は、集積回路の絶縁層、パッシベーション層、および MOSFET のゲート酸化物として機能します。保護コーティング: 化学的安定性と硬度のため、SiO2 は保護コーティングと耐摩耗コーティングに使用されます。バリア層: SiO2 は、さまざまな用途で拡散バリアおよび防湿層として効果的です。要約: SiO2 は、幅広い光学的透明性、優れた誘電特性、および強力な化学的安定性を備えた低屈折率材料であり、光学コーティング、エレクトロニクス、および保護層で非常に多用途に使用できます。耐久性と広い透過範囲は、さまざまな業界の薄膜で幅広く使用されている主な要因です。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合がすべての誘電体ターゲット材料に推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの段階で特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、ニッケル - Ni スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.02 インチ、純度 99.99 パーセント。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.02 インチの円形マグネトロン ニッケル - Ni スパッタリング ターゲットです。純度 99.99 パーセントです。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、ご注文後、お客様に当日出荷を保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えて保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。 Ideal Vacuum から購入すると、顧客はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、顧客は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。ニッケル - Ni ニッケル (Ni) スパッタリング ターゲットは、ニッケルの機械的、磁気的、化学的特性により、さまざまな産業および技術アプリケーションで薄膜堆積によく使用されます。薄膜におけるニッケル スパッタリング ターゲットの簡潔な概要は次のとおりです。1. 材料特性: 磁気特性: ニッケルは強磁性材料であるため、データ ストレージやセンサーなどの磁性薄膜アプリケーションに役立ちます。電気伝導性: ニッケルは優れた導体であるため、電気およびマイクロエレクトロニクス アプリケーションに適しています。耐腐食性: ニッケルは、特に軽度の腐食環境で優れた耐腐食性があり、保護コーティングに最適です。2.堆積方法:DC スパッタリング: 導電性材料であるニッケルは、通常、効率的な堆積と高いスパッタリング速度を可能にする DC マグネトロン スパッタリングを使用してスパッタされます。RF スパッタリング: ニッケルではあまり一般的ではありませんが、特殊なアプリケーションで必要な場合は RF スパッタリングを使用できます。反応性スパッタリング: ニッケルは、反応性環境でスパッタリングして、特定の用途の酸化ニッケル (NiO) またはその他の化合物を形成できます。3. アプリケーション:マイクロエレクトロニクス: ニッケルは、その導電性と熱安定性により、半導体デバイスの薄膜抵抗器、相互接続、および接点に使用されます。磁気ストレージ デバイス: ニッケルは、ハード ドライブ、磁気センサー、およびスピントロニクス デバイスで使用される磁性薄膜の主要材料です。保護コーティング: ニッケル薄膜は、工業環境や化学処理環境で耐腐食コーティングとしてよく使用されます。触媒: ニッケル薄膜は、特に水素製造や燃料電池などの特定の化学反応の触媒として使用されます。4.フィルム特性:機械的強度: ニッケル薄膜は強度が高く、さまざまな基板によく密着するため、保護コーティングに適しています。磁気特性: ニッケル薄膜は磁気特性を保持するため、磁気デバイスやセンサーに最適です。耐腐食性: ニッケル薄膜はさまざまな環境で腐食や酸化に対して効果的な保護を提供します。電気伝導性: ニッケル薄膜は導電性に優れているため、電子機器や電気接点に有効です。5. 反応性堆積: 酸化ニッケル (NiO): ニッケルターゲットを酸素が豊富な環境でスパッタリングして酸化ニッケル膜を形成できます。この膜は、エレクトロクロミックデバイス、バッテリー、ガスセンサーに応用できます。6.課題:磁気干渉:ニッケルは強磁性体であるため、スパッタリング システムでは、特にマグネトロン スパッタリングでは、スパッタリング装置の磁場との干渉を避けるために特別な配慮が必要です。薄膜の応力:ニッケル膜は堆積中に内部応力を発生する可能性があり、これが膜の接着性と機械的特性に影響を与える可能性があります。概要:ニッケル (Ni) スパッタリング ターゲットは、ニッケルの磁性、導電性、耐腐食性により、マイクロエレクトロニクス、磁気デバイス、保護コーティングの薄膜堆積に広く使用されています。ニッケル薄膜は、DC スパッタリングを使用して塗布されるのが一般的で、電子部品、磁気記憶媒体、保護層、触媒に使用されています。特定の機能用途では、反応性スパッタリングによって酸化ニッケル (NiO) 膜を作成することもできます。注:これらの材料は、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料には金属またはエラストマーのバッキング プレートの接合が推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少の手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、タンタル - Ta スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチ、純度 99.95 パーセント。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチの円形マグネトロン タンタル - Ta スパッタリング ターゲットです。純度 99.95 パーセントです。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、ご注文後、お客様に当日出荷を保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えて、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。 Ideal Vacuum から購入すると、顧客は製品をより早く受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、顧客は新しいトレンドや需要に迅速に適応して、競争で優位に立つことができます。タンタル - Ta タンタル (Ta) スパッタリング ターゲットは、タンタルの優れた機械的、化学的、電気的特性により、さまざまなハイテク産業で薄膜堆積に広く使用されています。薄膜におけるタンタル スパッタリング ターゲットの簡潔な概要は次のとおりです。1. 材料特性:高融点: タンタルは融点が非常に高く (約 3017 °C)、高温条件下でも安定しています。耐腐食性: タンタルは化学的に不活性で、酸による腐食に非常に強いため、保護層やバリア層に最適です。延性と強度: タンタルは強度と延性の両方を備えているため、耐久性のある薄膜の形成が可能です。電気伝導性: タンタルは導電性材料であるため、電気およびマイクロエレクトロニクス アプリケーションでの使用に適しています。2.堆積方法:DC スパッタリング: タンタルは導電性があるため、薄膜堆積には DC スパッタリングがよく使用され、RF スパッタリングに比べて堆積速度が速くなります。RF スパッタリング: 特に複雑な堆積設定では、必要に応じて RF スパッタリングも使用できますが、タンタルの場合は DC スパッタリングの方が一般的です。反応性スパッタリング: タンタルは、特定の用途向けに五酸化タンタル (Ta2O5) などのタンタル化合物を形成するために、反応性スパッタリングで頻繁に使用されます。3. 用途:マイクロエレクトロニクス: タンタルは、半導体および集積回路の製造に広く使用されています。薄いタンタル フィルムは、銅がシリコンや他の層に拡散するのを防ぐため、銅配線のバリア層として使用されます。コンデンサ: タンタル フィルムはタンタル コンデンサに使用され、特に小型デバイスで高い静電容量と信頼性を実現します。保護コーティング: タンタルは耐腐食性に優れているため、化学処理業界や生体医療インプラントなどの厳しい化学環境で保護コーティングとして使用されます。光学コーティング: タンタルは機械的強度と耐久性があるため、一部の光学コーティングに使用されていますが、光学分野での主な用途は Ta2O5.4 などの化合物です。フィルム特性:機械的強度:タンタル薄膜は、保護用途に役立つ強力で耐摩耗性のあるコーティングを提供します。耐腐食性と耐酸化性:タンタル薄膜は酸化と腐食に耐性があるため、高性能環境に適しています。バリア層:タンタルは、金属の移動 (銅など) を防ぎ、デバイスの寿命を延ばすために、マイクロエレクトロニクスの拡散バリアとして頻繁に使用されます。電気伝導性:タンタルの導電性により、抵抗器、電極、薄膜トランジスタなどの電子回路やコンポーネントに最適です。5. 反応性堆積:五酸化タンタル (Ta2O5):タンタルは、酸素との反応性環境でスパッタリングされて Ta2O5 薄膜を形成することが多く、その高い誘電率と光透過性により、光学コーティングや誘電体層に使用されます。6.課題:ターゲットの汚染: 反応性スパッタリング プロセスでは、非金属化合物 (酸化物など) がタンタル ターゲット上に形成され、スパッタリング効率が低下すると、ターゲットの汚染が発生する可能性があります。フィルムの応力: タンタル フィルムは堆積中に内部応力を発生することがあり、これがフィルムの接着と性能に影響を与える可能性があります。概要: タンタル (Ta) スパッタリング ターゲットは、耐腐食性、導電性、機械的耐久性が高いため、主にマイクロエレクトロニクス、保護コーティング、コンデンサーに使用されます。タンタル薄膜は、集積回路のバリアー層、銅配線の拡散バリアー、コンデンサー電極に不可欠です。効率的な堆積には DC スパッタリングが一般的に使用されますが、反応性スパッタリングでは、光学コーティングや誘電体に広く使用されている Ta2O5 などのタンタル化合物が形成されることがあります。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキング プレート接合が推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少の手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、ニオブ - Nb スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチ、純度 99.95 パーセント。Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチの円形マグネトロン ニオブ - Nb スパッタリング ターゲットです。純度 99.95 パーセントです。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格設定戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、ご注文後、お客様に当日出荷を保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えて保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。 Ideal Vacuum から購入すると、顧客は製品をより早く受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、顧客は新しいトレンドや需要に迅速に適応して、競争で優位に立つことができます。ニオブ - Nb ニオブ (Nb) スパッタリング ターゲットは、ニオブのユニークな電気的、機械的、超伝導特性により、薄膜堆積で広く使用されています。以下は、薄膜におけるニオブ スパッタリング ターゲットの簡潔な概要です。1. 材料特性:高融点:ニオブは融点が高い (約 2477°C) ため、高温用途に適しています。耐腐食性:ニオブは、特に酸性環境での酸化および腐食に耐性があります。超伝導性:ニオブは、特にその高い臨界温度 (Tc) と大きな超伝導電流を流す能力により、超伝導用途の重要な材料です。電気伝導性:ニオブは導電性材料であるため、電子および電気薄膜用途で有用です。2.堆積方法:DC スパッタリング: ニオブは導電性があるため、効率的な堆積速度を提供する DC マグネトロン スパッタリングが一般的に使用されています。RF スパッタリング: RF スパッタリングは、特殊な用途に使用したり、反応性スパッタリングと組み合わせてニオブ化合物を形成したりできます。反応性スパッタリング: ニオブは、反応性雰囲気 (酸素や窒素など) でスパッタリングして、特定の用途向けに酸化ニオブ (Nb2O5) または窒化ニオブ (NbN) を形成できます。3. 用途:超伝導フィルム: ニオブは超伝導フィルムの主要材料であり、超伝導量子干渉デバイス (SQUID)、超伝導回路、粒子加速器に使用されます。マイクロエレクトロニクス: ニオブ薄膜は、優れた導電性と安定性のため、コンデンサ、相互接続、マイクロエレクトロニクスの拡散バリアとして使用されます。光学コーティング: ニオブは、反射コーティングや光学フィルターに使用されます。反応性スパッタリングにより五酸化ニオブ (Nb2O5) が形成され、これは高屈折率光学コーティングに使用されます。保護コーティング: ニオブは耐腐食性と耐酸化性があるため、化学処理や高性能アプリケーションの保護コーティングに便利です。窒化ニオブ (NbN): 反応性スパッタリングで形成された NbN は、超伝導フィルム、ハードコーティング、耐摩耗層に使用されます。4. フィルム特性:超伝導: ニオブ薄膜は低温で超伝導性を示すため、量子コンピューティングや高性能超伝導回路に不可欠です。耐腐食性: ニオブフィルムは、特に過酷な環境で優れた腐食防止効果を発揮するため、保護層やバリア層に便利です。光学特性: 酸化ニオブ (Nb2O5) フィルムは屈折率が高く (約 2.2)、光学コーティングに使用されます。機械的強度: ニオブフィルムは強度と耐久性に優れているため、耐摩耗性が求められる用途に適しています。5.反応性堆積:五酸化ニオブ (Nb2O5): 酸素との反応性スパッタリングによって形成される Nb2O5 は、その高い誘電率と光透過性により、光学コーティング、誘電体、コンデンサーに使用されます。窒化ニオブ (NbN): NbN フィルムは、超伝導アプリケーションのほか、切削工具や耐摩耗性表面のハードコーティングにも使用されます。6. 課題:ターゲット中毒: 反応性スパッタリングでは、ターゲット中毒が発生する可能性があり、ターゲット上に非金属化合物 (酸化物や窒化物など) が形成され、スパッタリング効率が低下します。内部応力: ニオブ フィルムは堆積中に内部応力を発生する可能性があり、これがフィルムの機械的特性と接着性に影響を与える可能性があります。概要:ニオブ (Nb) スパッタリング ターゲットは、超伝導、マイクロエレクトロニクス、光学コーティング、保護層のアプリケーション用の薄膜に広く使用されています。 DC スパッタリングはニオブ薄膜の堆積によく使用され、反応性スパッタリングは Nb2O5 (光学コーティング、誘電体) や NbN (超伝導膜、ハードコーティング) などのニオブ化合物の形成に使用されます。ニオブ薄膜は、超伝導特性、耐腐食性、機械的耐久性のため、さまざまな業界で高く評価されています。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや低熱伝導性など、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導性が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウン時に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、チタン - Ti スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチ、純度 99.995 パーセント Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチの円形マグネトロン チタン - Ti スパッタリング ターゲットです。純度は 99.995 パーセントです。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格設定戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と卓越性の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、ご注文後、お客様に当日出荷を保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えて、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。 Ideal Vacuum から購入すると、顧客はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、顧客は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。チタン - Ti チタン (Ti) スパッタリング ターゲットは、チタンの優れた機械的、化学的、物理的特性により、薄膜堆積で広く使用されています。薄膜におけるチタン スパッタリング ターゲットの概要は次のとおりです。1. 材料特性:高強度対重量比: チタンは軽量で機械的強度が高いことで知られており、質量を大幅に増やさずに耐久性を必要とする薄膜に最適です。耐腐食性: チタンは腐食に対して非常に耐性があり、特に海水や酸性条件などの過酷な環境で耐性があります。生体適合性: チタンは生体適合性があるため、医療機器や生物医学コーティングに適しています。2.堆積方法:DC スパッタリング: チタンは導電性材料であるため、効率的な薄膜堆積には DC マグネトロン スパッタリングが一般的に使用されます。RF スパッタリング: RF スパッタリングは、反応性スパッタリングまたはより複雑な薄膜構造が必要な場合に使用できます。反応性スパッタリング: チタンは、反応性ガス (酸素や窒素など) の存在下でスパッタリングされることが多く、二酸化チタン (TiO2) や窒化チタン (TiN) などのチタン化合物が形成されます。3. 用途:マイクロエレクトロニクス: チタンは、半導体デバイスの拡散バリア、接着層、および電気接点に使用されます。集積回路での金属拡散を防ぐのに役立つ薄膜を形成します。光学コーティング: チタンは、光学コーティング、特に反射防止コーティングで耐久性のある保護層として使用されます。二酸化チタン (TiO2) は、多層光学コーティングによく使用される高屈折率材料です。保護コーティング: チタン薄膜は、航空宇宙、自動車、化学産業で耐腐食性および耐摩耗性コーティングによく使用されます。医療用途: チタンは生体適合性があるため、インプラント、補綴物、医療機器の薄膜に使用され、耐久性と生物組織との相互作用が向上します。触媒: チタンベースの薄膜 (TiO2 など) は光触媒に使用され、特に空気や水の浄化などの環境用途で使用されます。4.フィルム特性:機械的強度: チタンフィルムは耐久性と強度に優れ、耐摩耗性と機械的保護機能を備えていることで知られています。耐腐食性: チタンの薄膜は耐腐食性が非常に高いため、海洋環境やその他の過酷な化学条件での使用に最適です。接着性: チタン薄膜は、他のコーティングとの接着性を向上させる接着層として使用されることが多く、特に自然に接着しにくい材料に適しています。光学特性: 反応性スパッタリングによって形成された二酸化チタン (TiO2) フィルムは、可視範囲で非常に透明で、屈折率が高い (約 2.5) ため、光学コーティングに適しています。5. 反応性堆積:二酸化チタン (TiO2): 酸素環境での反応性スパッタリングによって形成された TiO2 は、その透明性と高い屈折率により、光学コーティング、太陽電池、光触媒に使用されています。窒化チタン (TiN): 窒素雰囲気でチタンをスパッタリングして形成された TiN は、ハードコーティング、耐摩耗性表面、マイクロエレクトロニクスの導電性フィルムに使用されています。6.課題:酸化: チタンは反応性があり、特に反応性環境での堆積中は酸化状態を制御するよう注意する必要があります (例: フィルムを過剰に酸化させずに TiO2 を形成する)。フィルムの応力: チタン薄膜は堆積中に内部応力を発生する可能性があり、これがフィルムの接着と機械的特性に影響を与える可能性があります。概要: チタン (Ti) スパッタリング ターゲットは、チタンの高い強度、耐腐食性、生体適合性により、マイクロエレクトロニクス、光学コーティング、保護層、医療機器で広く使用されています。DC スパッタリングはチタン堆積によく使用されますが、反応性スパッタリングでは TiO2 や TiN などのチタン化合物を形成でき、光学、光触媒、ハード コーティングに応用されています。チタン薄膜は、幅広い業界で優れた機械的強度、耐腐食性、接着性を備えています。注: 誘電体ターゲット材料には、脆さや熱伝導率の低さなど、スパッタリングに適さない特性があるため、すべての誘電体ターゲット材料に金属またはエラストマーのバッキング プレート ボンディングが推奨されます。これらのターゲットは熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少の手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、銅 - Cu スパッタリング ターゲットまたは Cu バッキング プレート、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチ、純度 99.99 パーセント Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチの円形マグネトロン銅 - Cu スパッタリング ターゲット、または Cu バッキング プレートです。純度は 99.99% です。当社では、お客様が最高品質の製品を可能な限り最高の価値で受け取れるように、非常に競争力のある価格設定戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と卓越性の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、お客様が注文後、即日出荷を保証しています。この短いリード タイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えることができるため、保管コストが削減され、陳腐化のリスクが最小限に抑えられます。 Ideal Vacuum から購入すると、顧客はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、顧客は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。銅 - Cu 銅 (Cu) スパッタリング ターゲットは、銅の優れた電気的特性と熱的特性により、薄膜堆積でよく使用されます。薄膜における銅スパッタリング ターゲットの概要は次のとおりです。1. 材料特性:高い電気伝導性: 銅は電気の最も優れた導体の 1 つであるため、マイクロエレクトロニクスや電気アプリケーションの薄膜に最適です。熱伝導性: 銅は熱伝導性が高く、熱放散が重要な薄膜に有効です。延性: 銅は延性のある材料であるため、機械的に安定していて柔軟な薄膜を形成できます。2.堆積方法: DC スパッタリング: 銅は導電性材料であるため、効率的な薄膜堆積には DC マグネトロン スパッタリングが一般的に使用されます。RF スパッタリング: DC スパッタリングが推奨されますが、交流磁場が必要な特定の用途では RF スパッタリングも使用できます。反応性スパッタリング: 銅は、酸素などのガスを含む反応性環境でスパッタリングされ、特定の用途向けの銅酸化物 (CuO、Cu2O など) を形成します。3.用途:マイクロエレクトロニクス: 銅は、その優れた電気伝導性により、集積回路、半導体デバイス、薄膜トランジスタの相互接続部や電気接点として広く使用されています。プリント回路基板 (PCB): 銅の薄膜は PCB の製造に不可欠で、電子部品の導電経路を形成します。太陽電池: 銅は、一部の薄膜太陽電池の電気接点や、CIGS (銅インジウムガリウムセレン化物) などの化合物の成分として使用されています。光学コーティング: 銅は、可視光線と赤外線の範囲で高い反射率を持つことから、反射コーティングやミラーに使用されることがあります。ヒートシンクと熱管理: 銅の薄膜は、マイクロエレクトロニクスのヒートシンクや熱管理層など、熱伝導性が不可欠な用途で使用されます。4.フィルム特性:高電気伝導性:銅薄膜は優れた電気特性を備えているため、電子機器の導電層に最適です。熱伝導性:銅フィルムは熱を効率的に放散し、高出力電子機器用途におけるデバイスの信頼性と寿命を向上させます。耐腐食性:銅フィルムは酸化されやすいため、腐食を防ぐために保護層(ニッケルやクロムなど)が追加されることがよくあります。接着性:銅はさまざまな基板に対して優れた接着性を備えていますが、接着層(チタンやクロムなど)は特定の材料との結合を強化するために使用されることがあります。5.反応性堆積:銅酸化物(CuO、Cu2O):銅は酸素を多く含む環境でスパッタリングして銅酸化物を形成します。これは半導体特性があるため、電子機器、センサー、太陽光発電に使用されます。6.課題:酸化:銅は特に空気や湿気があると酸化されやすくなります。これを回避するために、制御された環境で堆積が行われることが多く、追加の保護層が適用される場合があります。エレクトロマイグレーション: マイクロエレクトロニクスでは、薄い銅フィルムにエレクトロマイグレーションが発生することがあります。エレクトロマイグレーションとは、電流の影響を受けて原子が移動する現象で、デバイスの故障につながる可能性があります。この影響を軽減するために、バリア層 (タンタルやチタンなど) が使用されます。拡散: 銅は他の材料、特にシリコンに拡散することがあり、デバイスのパフォーマンスが低下する可能性があります。拡散バリア (タンタルなど) は、これを防ぐために使用されます。概要: 銅 (Cu) スパッタリング ターゲットは、銅の電気伝導性、熱伝導性、延性が高いため、マイクロエレクトロニクス、太陽電池、光学コーティング、熱管理などの薄膜アプリケーションに不可欠です。DC スパッタリングは銅の堆積に一般的に使用され、反応性スパッタリングは特殊なアプリケーション用の銅酸化物を生成できます。銅薄膜は相互接続、電気接点、放熱に広く使用されていますが、敏感なアプリケーションでは酸化と拡散を防ぐように注意する必要があります。注: すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。

Ideal Vacuum 円形マグネトロン スパッタリング ターゲット、クロム - Cr スパッタリング ターゲット、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチ、純度 99.95 パーセント Ideal Vacuum Products, LLC。この製品は、直径 3 フィート x 厚さ 0.25 インチの円形マグネトロン クロム - Cr スパッタリング ターゲットです。純度 99.95 パーセントです。当社では、最高品質の製品を可能な限り最高の価値でお届けできるよう、非常に競争力のある価格設定戦略を採用しており、すべての購入において手頃な価格と優れた品質の両方を実現しています。当社ではすべてのお客様に大幅な割引を提供しており、大量注文のお客様は大幅な節約をお楽しみいただけます。当社では大量の製品を在庫しており、ご注文後、お客様に当日出荷を保証しています。この短いリードタイムは、より迅速なターンアラウンド タイムでキャッシュ フローを管理したいすべてのお客様に好評です。当社の常連のお客様は、在庫レベルを低く抑えて、保管コストを削減し、陳腐化のリスクを最小限に抑えることができます。 Ideal Vacuum から購入すると、顧客はより早く製品を受け取ることができ、満足度が向上し、緊急のニーズを満たすことができます。これにより、顧客は新しいトレンドや需要にすばやく適応して、競争で優位に立つことができます。クロム - Cr クロム (Cr) スパッタリング ターゲットは、クロムの優れた機械的、化学的、および光学的特性により、薄膜コーティングで広く使用されています。薄膜コーティングにおけるクロム スパッタリング ターゲットの簡潔な概要は次のとおりです。1. 材料特性:高硬度: クロムは非常に硬い材料であるため、耐摩耗性と耐久性が求められる薄膜に最適です。耐腐食性: クロムは、特に過酷な環境での耐腐食性に優れているため、保護コーティングに便利です。接着促進剤: クロム薄膜は、特に多層コーティングで、異なる層間の接着を改善するためによく使用されます。2.堆積方法:DC スパッタリング: クロムは導電性材料であるため、堆積には DC マグネトロン スパッタリングが一般的に使用され、高い堆積速度と均一な膜が確保されます。RF スパッタリング: RF スパッタリングは、特に反応性環境でクロム化合物を形成する特殊な用途で使用される場合があります。反応性スパッタリング: クロムは、反応性ガス (酸素や窒素など) の存在下でスパッタリングされることが多く、特定の用途を持つ酸化クロム (Cr2O3) または窒化クロム (CrN) を形成します。3.用途: 装飾コーティング: クロムは、光沢のある反射仕上げと耐久性のため、時計、宝石、自動車のトリムなどの装飾用薄膜に使用されます。保護コーティング: クロム薄膜は耐摩耗性と耐腐食性を備えているため、工具、機械部品、化学処理装置に最適です。マイクロエレクトロニクス: クロムは、安定性と導電性のため、半導体デバイスの薄膜抵抗器、電気接点、拡散バリアに使用されます。光学コーティング: クロム薄膜は、光学デバイス、ミラー、フィルターの反射コーティングと反射防止コーティングに使用されます。ハードコーティング: クロム化合物、たとえば窒化クロム (CrN) は、切削工具、耐摩耗性表面、機械部品のハードコーティングに使用されます。4.フィルム特性:機械的強度: クロム薄膜は硬くて耐久性に優れ、工具や産業機器などの要求の厳しい用途で優れた保護を提供します。耐腐食性: クロム薄膜は酸化や腐食に強いため、過酷な化学環境での保護コーティングに最適です。接着性: クロムは多層コーティングの接着層としてよく使用され、金属、ガラス、その他の材料を接着するのに役立ちます。光反射率: クロム薄膜は反射率が良好で、光沢のある金属的な外観のため、光学コーティングや装飾コーティングに使用されます。5. 反応性堆積:酸化クロム (Cr2O3): 酸素環境での反応性スパッタリングによって形成される酸化クロムは、その硬度、耐摩耗性、および高性能アプリケーションでの腐食防止のために使用されます。窒化クロム (CrN): 窒素雰囲気でクロムをスパッタリングすることによって形成される CrN は、切削工具やその他の耐摩耗アプリケーションのハードコーティングに使用されます。6.課題:ターゲットの被毒: 反応性スパッタリング プロセス (例: Cr2O3 または CrN の形成) では、ターゲットの被毒が発生し、ターゲット表面に非金属化合物が形成されることでスパッタリング効率が低下する可能性があります。フィルムの応力: クロム フィルムは、堆積中に内部応力を生じ、特に厚い層でフィルムの接着と機械的特性に影響を与える可能性があります。概要: クロム (Cr) スパッタリング ターゲットは、硬度、耐腐食性、接着性に優れているため、保護層、装飾仕上げ、光学コーティング、マイクロエレクトロニクスの薄膜コーティングに広く使用されています。DC スパッタリングは通常、効率的なクロム堆積に使用されますが、反応性スパッタリングでは、切削工具やその他の要求の厳しい用途のハード コーティングに使用される酸化クロム (Cr2O3) や窒化クロム (CrN) などの化合物を形成できます。クロム フィルムは、耐久性、保護性、反射特性を兼ね備えているため、幅広い業界で汎用的に使用できます。注: すべての誘電体ターゲット材料には、脆さや低い熱伝導率など、スパッタリングに適さない特性があるため、金属またはエラストマーのバッキングプレート接合が推奨されます。これらのターゲットは、熱伝導率が低いため熱衝撃の影響を最も受けやすく、そのため、起動およびシャットダウンの手順中に特定の電力増加および減少手順が必要になる場合があります。